Etching / Cleaning Gas 蝕刻/潔淨 特氣
半導體製程 蝕刻/潔淨 使用之特殊氣體
Etching / Cleaning Gas
產品規格
| Etching / Cleaning Gas |
| Product | 中文 | Spec. |
| CHF3 | 三氟甲烷 | 5N |
| CF4 | 四氟化碳、四氟甲烷 | 5N |
| C2F6 | 六氟乙烷 | 5N |
| C3F8 | 八氟丙烷 | 5N |
| C4F6 | 六氟丁二烯 | 3N5 |
| C4F8 | 八氟環丁烷 | 5N |
| F2 Mix | 二氟混氣 | 3N/6N |
| BCl3 | 三氯化硼 | 5N |
| SiF4 | 四氟化矽、四氟化硅、氟化硅 | 5N |
| HBr | 溴化氫 | 5N |
| HF | 氟化氫 | 5N |
| HCl | 氯化氫 | 3N/5N5 |
| Cl2 | 氯氣 | 5N5 |
| NF3 | 三氟化氮 | 4N/4N5 |
