CVD/ALD Precursor 前驅材料
半導體製程 化學氣相沉積之前驅材料
CVD/ALD Precursor
產品規格
| CVD Precursor |
| Product | 中文 | Spec |
| TEOS | 四乙氧基矽烷、四乙氧基硅烷 | 9N |
| TEPO | 磷酸三乙酯 | 7N5 |
| TEB | 硼酸三乙酯 | 7N5 |
| TMPO | 磷酸三甲酯 | 8N |
| SiCl6 | 六氯二矽烷 | 6N |
| HCDS | 六氯矽烷、六氯硅烷 | 6N |
| BTBAS | 双(叔丁基氨基)硅烷 | 6N |
| TDMAT | 四（二甲胺基）鈦 | 6N |
| 4MS | 四甲基矽烷 | 6N |
| HCDS / Si2Cl6 | 六氯乙硅烷 | 3N |
| HMDS | 六甲基二矽氮烷 | 3N |
